文章参考:
http://t.csdn.cn/w44uq
http://t.csdn.cn/1yOJs
前言
传统的设计方法是采用过驱动电压的设计方法,原理理论基础是长沟道器件,然后工艺越来越先进小,进入深亚微米后,传统的长沟道物理模型偏差会比较大。从MOS晶体管反推估算参数会比较不太准确,计算有点繁琐,gmid的方法就是采用gm与id的比值来抵消工艺参数得到关于过驱动电压关系式,选择合适gmid的比值也就选择了过驱动电压。
gmid方法是通过对CMOS晶体管进行曲线的一个扫描,然后绘制出不同的长度,不同的gmid的条件下,特征频率、本征增益、电流密度的曲线,只需要在对应的曲线查找所需要的数值计算就行。
记录了使用工艺参数对运放进行设计的过程。一般是先仿真出当前工艺库有关参数,再代入每一个晶体管中进行计算,数据较为复杂,同时计算量庞大。当一个设计中有较多晶体管时,修改其中一项参数就会导致有较多的数据需要被重新计算。同时,在短沟道器件中,MOS的经验公式逐渐失效。所以,引入
gm/id设计方法,能高效和准确地进行设计工作。
一、gm/id 步骤
二、NMOS

waveVsWave(?x OS("/M0","gmoverid") ?y OS("/M0","self_gain"))
waveVsWave(?x OS("/M0","gmoverid") ?y abs(OS("/M0","id")/VAR("W")))
结果
扫描L
纵坐标改成log
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