NMOS在HKMG中用什么work function
时间: 2024-05-28 11:10:45 浏览: 372
NMOS (n-type metal-oxide-semiconductor) 在 HKMG (high-k metal gate) 中使用的是具有高功函数的金属材料,例如铱 (Ir)、铂 (Pt) 或钽 (Ta),这些材料的功函数可以达到4.9 eV - 5.3 eV,这样可以形成较高的阻挡垒,减少漏电流,提高器件性能。与传统的SiO2栅介质相比,HKMG栅介质可以显著降低栅漏电流和晶体管漏电流,提高器件的可靠性和性能。
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