SOI工艺和HKMG工艺区别
时间: 2023-05-31 13:08:11 浏览: 665
SOI工艺和HKMG工艺是两种不同的芯片制造工艺。SOI工艺是一种基于绝缘体层(SOI)制造的工艺,它可以在电晕效应、漏电等方面有更好的性能。而HKMG工艺是使用高k金属栅和高介电常数绝缘层与硅基底结合的制造工艺。它可以在功耗和性能上得到更好的平衡。这两种工艺的选择取决于芯片制造的应用环境和要求。
相关问题
SOI工艺和HKMG工艺分别制造什么器件
这是一个技术问题,SOI工艺(Silicon-on-Insulator)主要用于制造高速、低功耗的CMOS器件,而HKMG工艺(High-k Metal Gate)则主要用于制造高性能、低功耗的半导体器件。
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